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在我們實際研磨拋光過程中,研磨拋光主要講的是化學機械拋光(CMP: Chemical Mechanical Polishing)。CMP 是化學的和機械的綜合作用,在一定壓力及拋光漿料存在下,在拋光液中的腐蝕介質作用下工件表面形成一層軟化層,拋光液中的磨粒對工件上的軟化層進行磨削,因而在被研磨的工件表面形成光潔表面。
拋光液中的腐蝕介質與被拋光表面材料發(fā)生了化學反應,生成很薄的剪切強度很低的化學反應膜,反應膜在磨粒磨削作用下被去處,從而露出新的表面,接著又繼續(xù)反應生成新的反應膜,如此周而復始的進行,使表面逐漸被拋光修平,實現(xiàn)拋光的目的。
拋光皮的分類:
根據(jù)拋光皮磨料填充、材質、表面結構情況,共分為三大類
按磨料填充分為:無填充磨料和有填充磨料拋光皮
無填充磨料的拋光皮,在拋光過程中的相比較拋光工件光圈穩(wěn)定。
有填充磨料的拋光皮,含氧化鈰拋光皮和含氧化鋯拋光皮。
氧化鈰拋光皮:較能提高拋光速率;
氧化鋯拋光皮:較能提高被拋光工件的光潔度
按材質的不同分為:不織布(無紡布)磨皮、發(fā)泡聚酯磨皮和阻尼布磨皮。
按表面結構分為:有開槽和不開槽的拋光皮;
拋光皮的開槽種類:
拋光皮的作用:
1.把拋光液有效均勻地輸送到拋光皮的不同區(qū)域;
2.從被加工表面帶走拋光過程中的殘留物質、碎屑等,達到去除效果;
3.傳遞和承載加工去除過程中所需的機械載荷;
4.維持拋光皮表面的拋光液薄膜,以便化學反應充分進行;
5.保持拋光過程的平穩(wěn)、表面不變形,以便獲得較好的產(chǎn)品表面形貌。
拋光皮不同材質和制造工藝介紹:
1、不織布磨皮
薄狀聚酯纖維層疊后,用針反復撞擊使纖維結合在一起使其成為毛氈狀,并把它浸在聚樹脂或乳膠(SBR NBR等橡膠)中,然后切片,拋光,完成最終產(chǎn)品。
2、聚酯硬質磨皮
聚酯預聚物和硬化劑(增鏈劑)、發(fā)泡劑按照規(guī)定量混合后,注入定型容器中做成塊狀,然后通過切片機加工成最終片狀磨皮。
3、阻尼布磨皮
聚酯樹脂和發(fā)泡添加劑顏料(炭黑)等混合后放入水中凝固,干燥成薄膜狀。然后通過拋光加工,粘上基材和雙面膠得到最終產(chǎn)品。
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